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山東力冠微電子裝備

產品展示


坩堝下降爐

本設備主要用于砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP)等化合物晶體生長。設備由機架、安瓿支撐機構、加熱器和控制系統(tǒng)組成,能夠實現(xiàn)安瓿移動和轉動的精確控制。

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